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光刻设备
发布时间:2016-06-20 17:58
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- 业界知名的曝光机制造商ABM, Inc. 为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，被广泛的应用于半导体光刻工艺制程，光波导，光栅，微机电MEMS，LD,二极管芯片，发光二极体（LED）芯片制造，显示面板LCD，光电器件，奈米压印以及电子封装等诸多领域。ABM曝光机在全球知名的大学，研发中心，产学研结合单位以及大批量生产之工厂均拥有广泛应用的客户群体。
美国ABM, Inc. 成立于1986年，总部位于加州矽谷，至今服务于半导体业内超过25年。 ABM, Inc，除美国总公司外，旗下全球分支之ABM, Inc. Asia Pacific Ltd.更在香港设立直接销售及工艺研发中心并配有class100之超净实验室，旨在更好地直接对话并提供更专业的售前/后技术服务于中国大陆地区的广大客户。
ABM光刻机线宽制备能力
截止到2012年1月，ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机，50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等，ABM在中国各地也拥有不同领域的客户，包括众多的工厂、知名大学和研究所等。
光刻线条特征尺寸：
应用实例1：深紫外光源下0.25um线条
Scanning Electron Micrographs 电子显微镜图像
Feature Sizes图像尺寸0.25微米线条
采用TOK DUV 光刻胶，200nm光学镜，光刻胶厚度0.45微米。曝光时间40秒。
应用实例2：近紫外光源下0.6um线条
Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 0.5 um采用AZ PLP 50XT 光刻胶近紫外光源，曝光时间3秒，显影时间35秒。
应用实例3：接近式样曝光0.8um线条
Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 0.8 um, 50um gap近紫外光源，接近式曝光50um, 特征尺寸0.8um。
