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离子束刻蚀
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离子束刻蚀IBE

发布时间:2016-03-21 13:54  

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    IBE离子束刻蚀机采用了目前最先进的离子束刻蚀技术,并且可通过加装溅射离子源以实现离子束溅射(IBS)镀膜,有多种型号可选择,特别适合大学、科研院所使用。

    设备具有充分的灵活性进行刻蚀和/或沉积,并实现系统利用率最大化。
    系统规格可根据应用进行调节,从而实现更快的和可重复的工艺结果。


    系统可实现多种模式功能:

    · 离子束刻蚀(IBE)

    · 反应离子束刻蚀(RIBE)

    · 化学辅助离子束刻蚀( CAIBE )

    · 离子束溅射沉积( IBSD )

    离子辅助溅射沉积( IASD )

    广泛应用于卫星、导弹、核聚变、雷达、半导体、X射线近代光学、通信、多种传感和超导等技术领域,制造各种声、光、电、磁、传感和集成器件。

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