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离子束刻蚀IBE
发布时间:2016-03-21 13:54
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IBE离子束刻蚀机采用了目前*********的离子束刻蚀技术，并且可通过加装溅射离子源以实现离子束溅射（IBS）镀膜，有多种型号可选择，特别适合大学、科研院所使用。
设备具有充分的灵活性进行刻蚀和/或沉积，并实现系统利用率******化。
系统规格可根据应用进行调节，从而实现更快的和可重复的工艺结果。
系统可实现多种模式功能：
· 离子束刻蚀（IBE）
· 反应离子束刻蚀（RIBE）
· 化学辅助离子束刻蚀（ CAIBE ）
· 离子束溅射沉积（ IBSD ）
离子辅助溅射沉积（ IASD ）
- 广泛应用于卫星、导弹、核聚变、雷达、半导体、X射线近代光学、通信、多种传感和超导等技术领域，制造各种声、光、电、磁、传感和集成器件。
